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上海CIK直銷CDL2000納米碳酸鈣分散機 歡迎咨詢

簡要描述:上海CIK直銷CDL2000納米碳酸鈣分散機 ,納米碳酸鈣研磨分散機,納米碳酸鈣分散設備,碳酸鈣分散機,超細分散機,納米分散機可生產粒徑較大單粒徑分布范圍較窄的乳液。它具有較高的剪切率,保證了混合液的穩定性。選用不同的分散頭(轉子+定子)組合,可滿足不同的工藝和流體學要求。

產品型號:

所屬分類:納米分散機

更新時間:2023-03-05

詳細說明:

期待您的來電!如您有購買產品的意向,歡迎隨時來參觀本公司,了解我們的機器,本公司銷售產品皆配有樣機可供客戶試機等,以便您選購!!!

 

【產品介紹】

一、產品名稱:納米碳酸鈣分散機,納米碳酸鈣研磨分散機,納米碳酸鈣分散設備,碳酸鈣分散機,超細分散機,納米分散機

 

二、納米碳酸鈣簡介

納米碳酸鈣又稱超微細碳酸鈣。標準的名稱即超細碳酸鈣。納米碳酸鈣應用成熟的行業是塑料工業主要應用于高檔塑料制品。可改善塑料母料的流變性,提高其成型性。用作塑料填料具有增韌補強的作用,提高塑料的彎曲強度和彎曲彈性模量,熱變形溫度和尺寸穩定性,同時還賦予塑料滯熱性。納米碳酸鈣用于油墨產品中體現出了優異的分散性和透明性和*的光澤、及優異的油墨吸收性和高干燥性。納米碳酸鈣在樹脂型油墨中作油墨填料,具有穩定性好,光澤度高,不影響印刷油墨的干燥性能.適應性強等優點。

三、納米碳酸鈣的分散難點

納米碳酸鈣分散到水中或者溶劑當中,容易出現抱團的現象,導致物料粒徑變大,分散效果不佳,產品改性不充分。如果使用普通的分散設備,很難將納米碳酸鈣分散均勻,會出現團聚的現象,團聚體難以打開,而如果采用CIK新研發的分散設備,研磨分散機的話,先研磨后分散機,解決團聚問題,可達納米碳酸鈣還原至納米級。
3

   

          


四、CIK納米碳酸鈣分散設備簡介

CIK研磨式分散機,是由膠體磨+分散機結合而成的設備,主要是為了解決納米級物料的分散,如:納米碳酸鈣、納米氫氧化鎂、納米氧化鋁、石墨烯、碳納米管等納米級物料的分散。


CDL2000系列研磨分散設備是CIK(上海)公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,4P,6F,8SF等六種乳化頭供客戶選擇)

五、
CDL2000系列納米碳酸鈣分散機的特點:

① 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨

② 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。

④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。

 

產品選型表:

    型號    

  zui大處理量  

L/H

  輸出轉速  

rpm

  標準線速度  

m/s

  馬達功率  

KW

  進出口尺寸  

CDL2000/4

300-1000

9,000

23

2,.2

DN25/DN15

CDL2000/5

3,000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CDL2000/10

8,000

4,200

23

15

DN50/DN50

CDL2000/20

20,000

3,000

23

22

DN80/DN65

CDL2000/30

40,000

1,500

23

37

DN150/DN125

CDL2000/40

70,000

1,500

23

55

DN150/DN125

CDL2000/50

125,000

1,100

23

110

DN200/DN150

 

1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。

2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產品的要求。

3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數,以便選型和定制。

4 本表的數據因技術改動,定制而不符,正確的參數以提供的實物為準。

 

 

 

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